黑科技：ORNL通過電子束沉積技術3D列印出納米結構

南極熊2017年1月12日訊，美國橡樹嶺國家實驗室（ORNL）向來以研究大尺寸3D列印著稱，不過最近，他們卻將目光轉向了與之對立的微觀領域，而且取得了不錯的進展，成功3D列印出了一個比細菌還小的納米級微觀晶格結構。目前，相關的論文已經被發表到了ACS NANO雜誌（可向南極熊索要）。

據南極熊了解，這項研究是ORNL與奧地利格拉茨電子顯微鏡中心和田納西大學合作完成的，採用的技術是利用聚焦電子束誘導沉積技術（FEBID）。該技術是一種直寫式製造方法，能通過精確控制電子束構建出3D實體。這個過程會涉及計算機輔助3D模擬和3D設計（CAD），而其中，模擬的作用是幫助預測移動電子束所需的角度。

值得一提的是在此之前，維也納科技大學也嘗試過用FEBID技術研究微觀3D列印。通過在列印過程中加入氧化劑，他們成功製造出了更純凈的金納米結構，其電阻率僅有8.8微歐姆/厘米，已十分接近純金的電阻率（2.4微歐姆/厘米）。

ORNL的這項研究的解釋了2D模擬方法不足以創建3D結構的原因，同時證明了3D模擬對於FEBID是十分必要的，還證實了通過使用更強大的計算機，這種微觀3D列印方法的速度可以大幅提高，儘管所需的計算非常複雜，有時甚至需要慢速模擬。