儀錶專利：多個感測器間相互位置關係校準方法

OFweek儀器儀錶網訊 創意無極限，儀錶大發明。今天為大家介紹一項國家發明授權專利――多個感測器間相互位置關係校準方法。該專利由上海微電子裝備有限公司申請，並於2017年6月27日獲得授權公告。

內容說明

本發明涉及集成電路製造領域，特別涉及一種多個感測器間相互位置關係校準方法。

發明背景

投影掃描式(TFT)光刻機的目的是把掩模上圖形清晰、正確地成像在塗有光刻膠的基板上，隨著基板尺寸的增大，掩模、基板的形變會對套刻結果產生很大的影響，因此必須在掩模或基板上布置更多的標記。

為了提高產率，現提出一種曝光裝置，該裝置包括：照明系統1，掩模2、掩模台3、基板對準系統4、物鏡陣列5、曝光場6、基板7以及工件台8。該光刻機系統工作時，照明系統1通過物鏡陣列5將掩模2上的圖像成像到基板7的每個曝光場6上，通過工件台8與掩模台3同步運動完成掃描曝光動作。掩模台3承載掩模2運動、工件台8承載基板7運動，工件台測量系統和掩模台測量系統分別測量工件台8和掩模台3的位置。為了完成物鏡陣列5的鏡頭拼接，需要採用多個掩模對準感測器同時執行掩模對準的方案。然而，由於掩模對準感測器、基板對準感測器相對於工件台8或者整機框架會發生熱漂移，如果再運用原先的感測器位置關係計算掩模2相對於工件台8、基板7相對於工件台8的位置關係會引起套刻誤差。

因此，如何對多個感測器間的位置關係進行校準，成為本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。

發明內容

本發明提供一種多個感測器間相互位置關係校準方法，以解決感測器間相互位置漂移問題，從而消除該漂移對套刻的影響。

為解決上述技術問題，本發明提供一種多個感測器間相互位置關係校準方法，通過掩模對準感測器和基板對準感測器測量設置在工件台基準版上的基準標記，建立掩模對準感測器與基板對準感測器之間的位置關係。

圖為掩模與基板位置關係的邏輯聯繫圖

具體包括：步驟1：採用掩模對準感測器對工件台基準版上的基準標記進行位置測量；步驟2：通過該基準標記上的第一標記對掩模對準感測器進行位置標定；步驟3：通過該對準標記上的第二標記對基板對準感測器進行位置標定。

作為優選，標定包括離線標定和在線標定。所述離線標定步驟包括：採用干涉儀分別對每個掩模對準感測器和每個基板對準感測器進行位置標定，建立掩模對準感測器、基板對準感測器與干涉儀之間的關係；移動工件台，採用一個基板對準感測器依次對準工件台基準版上的基準標記，並標定每個基準標記相對於工件台的位置；使第一標記同時對準所有基板對準感測器，從而標定所有基板對準感測器的位置。

所述在線標定步驟包括離軸基線更新和同軸基線更新。所述離軸基線更新包括：將所有基板對準感測器同時對準第一標記，測得的工件台基準版的位置變化，並把在線測得的工件台基準版的位置變化補償到所述基板對準感測器上。所述同軸基線更新包括：移動掩模台和工件台到物鏡陣列下，所有掩模對準感測器測量其各自對應的第二標記的像素值變化，進而更新所述基準標記的像素位置。兩掩模對準感測器間距與兩基板對準感測器間距相同。所述掩模對準感測器和基板對準感測器的排列方向相同，均與光刻機系統的掃描方向垂直，可以測出基板內的高階形變。所述第一標記和第二標記部分重合

與現有技術相比，本發明通過掩模對準建立掩模與工件台的位置關係，再建立基板與工件台的位置關係，從而可以間接建立掩模與基板的位置關係，可以有效解決掩模、基板感測器間相互位置漂移問題，從而消除該漂移對套刻的影響。

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