领先对手3年 Intel 10nm工艺等效对手7nm

关注硬件的朋友们都知道，Intel的10nm工艺CPU即将蓄势待发，而Intel今天在中国举办“精尖制造日”活动中对将至的10nm Cannon Lake芯片做了讲解。

Intel执行副总裁兼制造、运营与销售集团总裁Stacy Smith首次展示了10nm晶圆，其将被用来制造Cannon Lake芯片。

Intel表示，自家10nm FinFET拥有世界上最密集的晶体管和最小的金属间距，实现了业内最高的晶体管密度，领先其他10nm整整一代。

之所以这么说，是因为Intel对于制程的命名是业界最保守也是最权威的，Intel称三星、台积电的10nm不过相当于自家的14nm，而全新的10nm则是同两家的7nm差不多。从90nm开始到14nm，Intel基本保持对行业的3年领先。

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