2017年中國超凈高純試劑市場現狀分析

超凈高純試劑是指主體成分純度大於99.99%，雜質離子和微粒數符合嚴格要求的化學試劑，是集成電路和超大規模集成電路製作過程中的關鍵性基礎化工材料之一。超凈高純試劑主要用於晶元的清洗、腐蝕和硅圓片表面的清洗。

超凈高純試劑基於微電子技術的發展而產生，隨著微電子技術的發展而同步或超前發展，同時它又制約著微電子技術的發展。因此，超凈高純試劑的研究開發與應用必須與微電子技術的發展及應用緊密地結合才具有現實意義。超凈高純試劑是超大規模集成電路製作過程中的關鍵性基礎化工材料之一，全球20世紀60年代便開始生產超凈高純試劑，並為微電子加工技術的發展而不斷開發新的產品。近年來，隨著全球電子工業的發展，全球超凈高純試劑市場規模不斷擴大，從事超凈高純試劑研究與生產的廠家及機構也在增多，生產規模不斷擴大。到目前為止，從事超凈高純試劑的研究開發及大規模生產的主要有德國E.Merck公司，美國Ashland、Mallinckradt Baker，日本住友合成、德川、三菱，我國台灣地區的Merck、長春、中華、友發、長新化學等，韓國主要有東友、東進、SAMYOUNG FINECHEM等公司。

新思界產業研究中心發布的《2017-2021年中國超凈高純試劑發展現狀及投資前景研究報告》顯示，隨著我國技術水平的提高，生產企業數量的增加以及企業的擴產，我國超凈高純試劑行業供給規模不斷擴大，2016年中國超凈高純試劑的供給規模已經達到48.95億元。經過近些年的發展，我國超凈高純試劑行業取得了一定的成就。但是在高端超凈高純試劑領域與國際企業相比還有一定的差距，國產化程度還比較低，尤其是C8級別以上的產品很少有國內企業能夠生產，C12及Grade5等高端超凈高純試劑基本被德國Merck集團、美國Sigma-Aldrih等國外知名企業佔據。

新思界行業研究員表示，未來幾年，我國電子信息產業將會繼續保持較快的發展，半導體的生產規模繼續壯大，超凈高純試劑的市場需求規模和市場規模將繼續以較快的發展速度不斷壯大。隨著中低端市場競爭的進一步加劇，行業利潤水平的降低，越來越多的企業將加大對C12及Grade5等高端產品的研發，高端領域成為未來行業研發的方向。

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