LPKF ProtoLaser U4新型激光直寫設備

通用可用性

LPKF ProtoLaser U4使用UV激光源，許多材料組在該波長下都很容易處理——並不需要額外添加其它工具、掩模或薄膜，LPKF ProtoLaser U4在其前身的成功基礎上，通過有針對性的創新擴展了其應用範圍。

新設計

LPKF ProtoLaser U4採用全新的LPKF設計，將優美的外觀與巧妙的操作和維護解決方案相結合，控制PC集成在ProtoLaser U4中。

穩定低能量範圍

精緻、敏感的工藝不僅不需要大量的激光能量，而且特別少。多重處理可在敏感基材上產生高度精確的結構，新型紫外激光光源能在較大區間範圍內表現穩定，可安全地處理部分材料組和薄層。

過程跟蹤

一個新的性能測量領域決定了焦點位置的實際激光性能並顯示出來。在這裡，LPKF已經滿足了需要準確實際數據的客戶的要求。

視覺系統

LPKF ProtoLaser U4使用最新設計的視覺系統，針對激光微觀材料處理進行了優化，相機和圖像識別過程探測要處理的基板上的任何基準點或幾何結構，具備更高的解析度和更快的檢測演算法加速了製造過程。

（1）出於紫外激光的寬處理範圍

（2）更窄性能範圍保持穩定

（3）底層水平的輸出測量

由於其高度靈活性和快速處理，激光加工本身在競爭過程中脫穎而出，該激光器不使用對環境有害的化學物質，不需要面罩，並可將工具生產費用降至最低，激光器可以無接觸地工作，因此也可以用于敏感材料。

ProtoLaser U4可以製造符合甚至超過工業加工質量的原型，它也適用於小批量生產和生產高變異的單個部件。

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