ASML載具供應商家登精密談中國EUV的發展，面臨諸多挑戰

載具對於曝光機發揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力於研究曝光機載具，並為全球最大的半導體設備製造商ASML提供載具相關技術。

我們主要研究EUV的配套技術，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術產品已經達到國際先進水平，這是一個值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術的研究會越來越困難。封裝、3D封裝、以及更高級的集成封裝，都將會是我們以後關注的技術，因為光罩正逐漸走向極限，接下來將會是EUV的時代。

EUV在中國的發展還需要思考，因為目前20nm至28nm技術，中國還需要進一步摸索，現階段大多數企業可能還是在研究65nm至90nm，下一步進展到45nm，這樣才能向，比如說14nm衝刺。中國還有一段路要走，第三梯隊內的半導體廠商也是同樣情況。未來EUV可能是一個很大的門檻，因為很多有能力去做十幾納米的國際知名廠商，在7nm到5nm升級的過程中，已經花了很多的時間和資源了，這將導致未來的PIP諮詢保密制度越來越嚴格，未來圈外的廠商會花費更多的時間，投入更多的金錢進入圈內。下一階段，哪家公司能做到7nm的升級，可能還需要一個過程去觀察。

近年來EUV在中國的設備業引起了一股討論的熱潮，中國設備業的未來發展離不開EUV的研發，同樣也離不開技術與人才的積累。對比中國台灣地區的廠商，在中國大陸享受著很多的政策幫助，但同樣也面臨著諸多挑戰。中國大陸為設備廠提供了很多優惠政策，但是如果中國廠商未來希望打造世界第一企業，還要有堅定的信心。此外，人才是必要的，時間也需要給予。半導體設備業不可能一步到位，因為設備需要工程師花時間摸索才能熟練掌握。半導體知識的積累也很重要，如今人才的頻繁流動導致知識難以積累下來，這對公司技術的提升增加了難度。未來要想辦法完善人才管理機制，這樣才能做到知識的積累，這可能是中國半導體設備廠應該關心和注意的地方。

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