上海新陽成立控股子公司研發193nm高端光刻膠

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3月14日，上海新陽半導體材料股份有限公司發布公告，擬與合作方共同投資設立子公司「上海新納微電子材料有限公司」(最終名稱以實際工商登記為準，以下簡稱「目標公司」或「控股子公司」)開展 193nm(ArF)干法光刻膠研發及產業化項目。

本項目計劃總投資 2億元人民幣，資金來源為項目發起單位自籌。項目公司註冊資本為 1億元人民幣，上海新陽出資 8000 萬元人民幣，占目標公司股權的 80%；鄧海博士技術團隊出資 2000萬元人民幣，占目標公司股權的 20%。

公告稱，193nm高端光刻膠及配套關鍵材料產品在國內一直是空白。本次對外投資通過組建與集成電路行業國際先進水平接軌的技術和管理人才團隊、開展研發高端集成電路製造用 193nm干法光刻膠研發與產業化項目，形成規模化生產能力，填補國內高端光刻膠材料產品的空白，豐富公司半導體材料產品線，為經營業績的提升打下基礎，為中國半導體產業的長遠發展做出貢獻。

光刻膠產品在集成電路材料中技術難度最大，質量要求最高。尤其是本項目所要開發的 193nm(ArF)高端光刻膠在國內一直是空白，技術和產品一直掌握在國外幾大專業廠商手中，國內有多家公司和科研機構歷經多年開發與探索，始終未能突破。本項目旨在打破國外專業公司的壟斷，填補國內空白。要想達到這一目標，是有一定難度和風險的。本項目計劃引進高端專業技術團隊，負責關鍵

配方研製、關鍵應用技術開發、質量管控及產品生產。同時充分利用公司多年在集成電路配方型功能性化學材料開發和應用方面所積累和擁有的技術經驗，與引進技術團隊充分配合協作，確保本項目開發成功。

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