英特爾新製程落後，2021年或被台積電超車

研究機構Linley Group發布晶元產業報告指出，英特爾（Intel）開發新製程落後，原有的晶元製造技術優勢也幾乎蕩然無存。

首席分析師Linley Gwennap寫說，英特爾的10納米製程一再延誤，導致衝刺下一代製程進度現不僅落後給台積電，三星與其夥伴GlobalFoundries也準備超車。

據悉，台積電計劃於今年6月份開始量產7nm FinFET晶元，屆時台積電將實現7nm晶元100%的市場份額，而高通、海思和Xillinx都是台積電的大客戶，7nm這項工藝的收益將在第二季度開始體現。

三星已經完成了7nm製程技術的開發，並且在這一製程技術中使用了極紫外線曝光設備（EUV）。最初，該公司預計7 納米製程技術的開發將在2018 年下半年完成，但是，未來追趕台積電的腳步，現在已經提前半年完成。有消息指出，高通正準備向三星發送其新移動晶元樣品。

報告分析各大廠生產的晶元電路密度，以及其它工藝技術指標，結論是其它競爭者所採用的技術水平均已逼近英特爾，比如台積電的7納米與英特爾10納米幾乎沒有差距。報告指出，三大競爭廠商在採購下一代微影技術（lithography）設備均比英特爾積極，不排除三者2021年都將超越英特爾。

英特爾護城河被對手一一攻破，未來營收展望堪憂。日前有消息傳出，蘋果最快2020年於部分Mac電腦以自家研發的處理器取代英特爾處理器，恐衝擊英特爾營收。

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