SMIC向ASML訂購新型EUV光刻機 2019年交貨

日本新聞網站Nikkei Asian Review引述消息稱，全球最大的晶元機器製造商、荷蘭的阿斯麥（AMSL）證實，中國向荷蘭訂購一台最新型的使用EUV（極紫外線）技術的晶元製造機器光刻機，訂貨單位是中國廠商SMIC。這台機器價值1.2億美元，與其去年凈利潤1.264億美元大致相當。消息來源稱，這一設備預計將於2019年年初交付。

世界上很多著名晶元商如Intel、 Samsung 和TSMC（台積電）等，都已經開始試驗使用這種EUV機器生產晶元，估計今年年底可以生產出第一批成品。

此外，關於基於瓦森納協議（Verdrag van Wassenaar），荷蘭不能出售光刻機給中國的傳言。ASML表示，出售光刻機給中國，並沒有違反瓦森納協議的精神。

ASML：現代晶元不可或缺的支持者

阿斯麥公司ASML Holding NV創立於1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備製造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，於2001年改為現用名，總部位於荷蘭費爾德霍芬，全職僱員12,168人，是一家半導體設備設計、製造及銷售公司。

阿斯麥公司為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。

目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML採購TWINSCAN機型，例如英特爾，三星，海力士，台積電，聯電，格芯及其它半導體廠。隨著摩爾定律的發展，晶元走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

ASML的光刻機怎樣幫晶元助力？我們可以看一下ASML官方的介紹：

簡單來說，我們製造的光刻設備是一種投影系統。這個設備由50000個零件組裝而成。

實際使用過程中，則通過激光束被投穿過一片印著圖案的藍圖或光掩模，光學鏡片將圖案聚焦在有著光感化學塗層的硅晶圓上，當未受曝光的部分被蝕刻掉時，圖案隨即顯現…

此製程被一再重複，用以在單個晶元上製造數以十億計的微型結構。晶圓以2納米的精準度互相疊加，並加速移動，快如閃電，達到這種精確度可謂高科技，要知道，即使頭髮絲也有十萬納米，2納米的精細可想而知。

未來，只有他的EUV光刻機能夠幫助晶元接續微縮，因此這些設備縱使賣到上億歐元，都能被客戶所接受。

當前半導體製程已經微縮到10納米一下，大家希望極紫外光微影設備（EUV） 能協助製程向前發展。2017年7月份艾司摩爾曾經報告指出，已經積壓了多達21 台EUV 的訂單，未來艾司摩爾的壓力還是很大。

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