消息稱中芯國際下單最先進EUV光刻機 價值1.2億美元

5月17日消息，據國外媒體報道，中芯國際向ASML訂購價值1.2億美元的首批EUV光刻機(Mask Aligner)。此次採購將有助於推動中國自主研發半導體生產。EUV是當前半導體產業中最先進也最昂貴的晶元製造設備。

光刻機是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。ASML是荷蘭半導體設備製造商，並於歐美上市。目前包括英特爾、三星、台積電等巨頭都在購買該設備，以確保在此後的先進工藝中能製造性能更強大、設計更領先的晶元。

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