至純科技：高純工藝系統＋高端濕法設備

上海至純潔凈系統科技股份有限公司作為半導體產業高純工藝系統集成商，通過結構優化和工藝延伸，果斷投入開發和高純化學品息息相關的清洗機研發和製造，積極投身本土集成電路設備事業。

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圖片來自PNC至純科技官微

公司於2015年啟動濕法設備的研發項目，開始與關國家重點院校和實驗室積極對接，成立研發團隊及項目；2016年成立院士工作站，針對用戶在生產和研發過程中提出的特殊需要開展相關的研發工作，相關的研發項目均是針對公司核心業務相關，圍繞高純工藝與濕法清洗設備，目前均在穩定推進中；2017年成立獨立的半導體濕法事業部（子公司至微半導體，品牌ULTRON），致力打造高端濕法設備製造開發平台，豐富半導體設備領域的產銷體系。

圖片來自PNC至純科技官微

2017年1月13日，公司掛牌上市，這是公司發展道路上一個重要的里程碑。公司上市後打破了長期困擾的融資瓶頸，良好的信用背書，使得敢於承接行業內的大訂單。公司在經營重心上快速做了調整，將更多的核心資源配置到集成電路領域。公司在2017年的針對集成電路的重點部署達成了比較好的經營成果。繼2016年度競得合肥晶合訂單後，2017年公司又相繼競得了華力微、中芯國際、合肥睿力（長鑫）、長江存儲、台積電南京、SK海力士無錫等用戶新建的12英寸產線建設的訂單，從而進一步確立了公司在行業內的地位。

2017年公司營收達3.69億元（全部是高純工藝集成系統收入），較2016年增長40.18%；其中半導體行業的營收達2.1億元，較2016年成長59.92%。

公司主要的產品以及技術水平如下：

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圖片來自PNC至純科技官微

一、濕法設備

2017年公司已經形成了Ultron B200和Ultron B300的槽式濕法清洗設備和Ultron S200和Ultron S300的單片式濕法清洗設備產品系列，並已經取得6台的批量訂單。公司預估濕法事業部未來五年內有超過200台各類濕法清洗機台的裝機量。

1、單片濕法清洗設備

單片濕法清洗設備應用於300mm&200mm集成電路晶元製造濕法清洗工序。該設備具有多層式結構腔體設計，化學品回收率最高可以達到95%以上；自動清洗功能，可避免交叉污染及減少微粒子；先進的自動工藝控制功能，可以改善產品的均勻性；可靠的視覺辨識功能，能立即偵測設備異常，預防產品異常，以及IPA乾燥功能，可以減少微粒子及水痕。工藝技術節點最高已經達到14納米先進工藝。目前該產品300mm系列已經完成技術引進（技術引進產品在一線集成電路用戶有大量使用，在國內也已通過中芯國際產線認證）。

2、槽式濕法清洗設備

清洗工藝技術節點也分化成28納米以及14nm等先進工藝，以及65nm-0.8um特色工藝兩種；依據工藝不同，需要依據不同的應用需求來選擇合適的清洗配置；並且進一步兼顧晶圓清洗成本降低和環境保護。

槽式濕法設備的規格，可完全依據客戶的需求所量身定做；並可提供完整的濕法工藝解決方案，及前瞻的技術規劃。目前已經有批量訂單。

二、高純工藝系統：特氣氣瓶櫃、高純化學品送液櫃及相關係統集成

至純科技在半導體的高純工藝領域耕耘10年，高純工藝系統中應用大量的特氣櫃、化學品送液櫃、化學品調配櫃等，是直接和良率息息相關的關鍵支持(設備)系統。至純已經於2007年開始陸續將各類高純特氣系統的氣體設備和高純電子化學品系統的送液設備完全國產化。至純科技為華力微、中芯國際、合肥睿力（長鑫）、長江存儲、合肥晶合、台積電南京、SK海力士無錫、華潤上華、士蘭微等一線用戶提供高純工藝系統相關的產品和服務。

圖片來自PNC至純科技官微

公司有信心在國家戰略的政策和產業基金的支持下，通過市場化的運作和專業化的管理，為國內客戶服務，為國家集成電路事業的發展貢獻力量。

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