氮化鎵界面態研究獲進展

近期，中國科學院微電子研究所研究員劉新宇團隊及合作者（中科院合肥物質科學研究院固體物理研究所王先平課題組、微電子所先導中心工藝平台等）在氮化鎵界面態起源研究方面取得創新性進展。

氮化鎵界面態問題是III-N材料體系研究一直面臨的核心問題，制約著器件的規模化和實用化。其中，深能級界面態很容易造成器件性能惡化，被研究者關注較多，目前已通過多種鈍化方法（如SiNx，SiO2，AlN等）將器件界面態降低到1011-1012cm-2eV-1水平。但近導帶區域的淺能級界面態通常保持在1013cm-2eV-1以上水平。由於缺乏近導帶區域界面態的捕獲界面實驗數據，一般用10-14-10-16cm-2的經典數據代表整個界面的捕獲截面，導致捕獲截面小於10-16cm-2的界面態時間常數被大大低估，從而誤判器件在低頻（

針對上述關鍵問題，劉新宇團隊基於超低溫的恆定電容深能級瞬態傅里葉譜表徵了LPCVD-SiNx/GaN界面態，在70K低溫下探測到近導帶能級ELP (EC - ET = 60 meV)具有1.5 × 10-20cm-2的極小捕獲界面。在國際上第一次通過高分辨透射電鏡在LPCVD-SiNx/GaN界面發現晶化的Si2N2O分量，並基於Si2N2O/GaN界面模型的第一性原理分析，證明了近導帶界面態主要來源於鎵懸掛鍵與其臨近原子的強相互作用。由於晶化的Si2N2O分量中電子平均自由程比無定形介質分量自由程長，且Si2N2O與GaN的晶格失配非常小，使得近導帶界面態的捕獲界面非常小。該發現從新視角揭示了近導帶界面態的理論起源，為解決界面態問題提供了深刻理論與實踐依據。研究中同時發現了一種與GaN晶格周期匹配的晶體介質Si2N2O，其與GaN和方向高度匹配，有望在材料生長領域催生新的研究熱點。

該工作以《探究LPCVD-SiNx/GaN晶化界面的近導帶界面態》為題發表在ACS Appl. Mater. Interfaces雜誌上（DOI: 10.1021/acsami.8b04694），相關專利已獲申請號。

該項研究得到國家自然科學基金重大儀器項目/重點項目/面上項目、中科院前沿重點項目/STS項目、重點研發計劃等的資助。

LPCVD-SiNx/GaN界面HRTEM圖像（中）、GaSi模型（左）及第一性原理DOS分布（右）

來源：中國科學院微電子研究所

喜歡這篇文章嗎？立刻分享出去讓更多人知道吧！