至純科技：高純工藝龍頭 換擋半導體迎來高增速

至純科技為高純工藝設備系統的提供者。至純科技業務為電子、生物醫藥等行業的先進位造企業提供配套的高純工藝系統與高純工藝設備，主要以控制生產工藝中的不純物為核心，涉及的行業包括泛半導體產業(集成電路、MEMS、面板顯示、光伏、LED)、光纖、生物製藥和食品飲料等行業。

換擋半導體，迎來業績高速成長。2014年起公司由光伏、生物製藥為主拓展布局至泛半導體領域，換擋半導體迎來業績高速成長。15年起公司成立濕法事業部、逐步進軍清洗設備，基於自身在高純工藝系統集成中積累的技術與經驗，於2017年開發了出Ultron B200 和Ultron B300 的槽式濕法清洗設備和Ultron S200 和Ultron S300 的單片式濕法清洗設備產品系列，預計隨著客戶導入驗證進展順利迎來訂單放量。

高純工藝系統用於避免生產中雜質污染，核心在於控制不純物。目前應用於泛半導體(集成電路、平板顯示、光伏、LED等)和生物醫藥等先進高精度製造業的工藝介質(氣體、化學品、水等)高純輸配系統，用來確保工藝介質在製程中不受雜質污染，是直接影響產品工藝精度與良率的關鍵配套系統，是這些行業生產工藝流程的不可分割的組成部分。

清洗貫穿整個半導體製造、是重要環節之一，至純科技切入濕法清洗設備有望迎來廣闊空間。半導體的清洗幾乎貫穿整個半導體的流程。從矽片製造時需要對拋光好的硅晶圓進行清洗，去除表面的污染物，到晶元製備中去除光刻膠、濕法刻蝕、CVD等，再到最後的材料質檢。每一個環節都需要清洗以保證下一步不受雜質的干擾，保持產品的良率。同時隨著晶元製程的不斷縮小，所需要的進行的清洗次數也就越來越多。據統計，清洗工藝的次數佔到了在整個晶元製造工藝步驟的三分之一，是晶元製造的重要環節。

我們認為至純科技作為國內高純工藝系統龍頭，多年來深耕主業與半導體、面板等領域主流客戶構建良好關係，有望進一步受益未來三年全球FAB廠東移趨勢，同時公司積極拓展、向前道延伸至濕法清洗設備，客戶導入驗證順利進展之下有望迎來訂單釋放。預計公司2018-2020年歸母凈利潤保持100%/51.1%/41.5%增速，對應實現歸母凈利潤0.94/1.42/2.01億元。

風險提示：外延進展不達預期，濕法設備項目產業化不達預期。（中泰證券）

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