「創芯中國」，由國產光刻機看中國芯的崛起之路

昨天，由南航學生組建的「創芯中國」團隊一行人來到了茂萊光學科技股份有限公司進行調研。

茂萊（MLOptic）是全球領先的定製光學元件、組件和系統製造商，主打高端光學元件的生產研發。光刻機最核心的技術就是鏡頭，作為高端鏡頭權威生產商的茂萊光學，向這支團隊仔細介紹了國產光刻機現狀。

目前市場上主要的光刻機供應商有荷蘭的ASML、日本的NIKON和CANON，以及中國大陸的上海微電子裝備(SMEE)。其中，ASML佔據了80%以上的市場份額，更是在極紫外光(EUV)領域處於壟斷地位。EUV光刻機擁有超高精度，2017年的設備已採用最小 13nmEUV作為光源，超短波長可實現 7nm以下特徵尺寸曝光。隨著業界製程步入 10nm以下，需要更高級的 EUV光刻系統，而全球只有ASML的 NXE系列能夠滿足需求。

ASML的EUV光刻機

那麼中國廠商在這一領域處於什麼位置呢？目前，國內光刻設備的龍頭企業是上海微電子裝備（SMEE），其產品已能實現90nm規格光刻機的生產，技術差距還是巨大的。但考慮到其起步較晚，技術積累薄弱，能取得這樣的成果實屬不易。另外，合肥芯碩半導體有限公司和無錫影速半導體科技有限公司研發的光刻機，都已可以實現最高200nm規格的生產。

SMEE的600系列光刻機

雖然技術上有鴻溝般的差距，但我們在努力追趕中。我國22納米光刻機技術的研發正在進行，用於光刻機的固態深紫外光源的研發也沒有落下。甘棕松教授發明的超分辨納米光刻技術已實現了單線9納米線寬的超分辨光刻，並可擺脫EUV光刻對真空環境和高能光源的要求。我國的「極大規模集成電路製造裝備與成套工藝」專項（02專項）項目、中國科學院大學微電子學院與中芯國際集成電路製造有限公司的產學研合作項目中也均取得可喜進展。

我們的工業起步晚，技術上有大的差距是正常的，我們從來就不懼怕差距。中國人正用自己的努力，縮短著這些差距，甚至已經在某些領域實現反超，遙遙領先。總有一天，我們會用上自己的高端光刻機，而世界會用上強大的「中國芯」！「創芯中國」，我們在行動！

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