毛利率超45％，半導體最賺錢的設備

半導體光刻設備龍頭阿斯麥（ASML.O），公布2018年二季度財報，營收27.4億（歐元，以下同）（+30%），凈利潤5.8億（+25%），高於財務指引上限的26億營收及5.4億凈利；毛利率為43.3%（-1.7%），凈利率21.3%（-0.9%）。此外，季度新增訂單金額為19.5億，對三季度的財務指引，公司預估營收為27億至28億，毛利率在47%-48%之間。

季度業績超預期，主要來自EUV設備收入高增長。阿斯麥在中高端光刻機領域，有80%以上市佔率，也是全球唯一的極紫外光EUV光刻機供應商。公司在今年一季度認列1部EUV設備收入，營收佔比7%；二季度認列7部EUV收入，營收佔比35%，是營收環比增長20%的重要因素。在新增訂單數量上，一季度共計9部，二季度下降至1部，波動程度較大，但公司的樂觀態度不變，2018年預計產出20台EUV光刻機，2019年達到30台以上，是未來增長的主要驅動。

存儲晶元擴產拉動DUV設備需求，但增速趨緩。公司的超紫外光DUV光刻設備，仍佔6成以上的設備出貨，目前主要用於存儲晶元生產。受益於存儲業者的擴充產能，公司在2018年上半年，DUV設備營收共23億，接近2017全年的30億。但與一季度相比，二季度的相關營收由12.2億小跌至11.2億，增速趨緩。

邏輯晶元的設備需求目前集中於EUV，由一線晶圓廠主導。我們估算，公司用於邏輯晶元的DUV，在二季度在3億歐元左右，不到EUV設備的半數。對比上一季度的區域銷量，韓國由51%回落到35%，而中國台灣由3%上升至18%，美國由5%上升至19%，而中國大陸維持2成左右。我們認為，該變化印證了台積電、英特爾、三星、格羅方德等巨頭的EUV設備逐步到位，也說明國內晶圓廠的建設落地，設備需求穩健

EUV光刻導入實際量產，製程競賽驅動高端設備需求。一線晶圓廠持續投入先進位程，帶動EUV設備需求。公司在2018年上半年共收到10台EUV設備訂單（不含下一代的High-NA EUV），交貨7台。下一代的High-NA EUV設備，解析度比現有的EUV高出70％，主要用於7nm+及5nm的製程。相關產品在上季度已經收到3個客戶的8台訂單，預計在2021年交付。

我們認為，晶圓業者在高端製程的競賽，將持續驅動EUV等尖端設備發展；同時，國內晶圓廠的逐步落成，將帶動2020年前的前段設備需求，兩者皆能延長半導體設備的周期。另一方面，由於近期中美之間的貿易摩擦，我們判斷，晶元國產化及半導體產業鏈的自給能力，可能會受到更多的政策支持與資源投入。

來源智通財經網 今日半導體整理髮布，轉載請註明出處，本文如有侵權等不適，歡迎您及時指正

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