打破壟斷，國家重大科研項目「超分辨光刻裝備項目」通過驗收

近日，我國自研的國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備研製」順利通過驗收。

該光刻機由中科院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到了22納米，結合雙重曝光技術，未來還可以應用於製造10納米級別的晶元。

這次項目是在無國外經驗可借鑒的情況下，突破了高均勻性照明，超分辨光刻鏡頭，納米級分辨力檢焦及間隙測量，超精密、多自由度工件台及控制等關鍵技術，並且我國擁有完全自主知識產權。

這一項目的順利實施，意味著我國在光刻機等領域長期落後的局面下，打破了國外的壟斷，也為納米光學加工提供了全新的解決途徑。

另外，該光刻機也為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義晶元等領域提供了製造工具。

喜歡這篇文章嗎？立刻分享出去讓更多人知道吧！