喜訊！我國晶元製造技術有重大突破，打破國外在此領域的壟斷

中科院光電所超分辨光刻裝備項目組經過近七年艱苦攻關，突破了多項關鍵技術，完成國際上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備研製。業內人士稱，該項目是中國晶元製造技術的一個重大突破。

中國科學院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備研製」通過驗收，這是世界上首台用紫外光源實現了22納米解析度的光刻機。其採用365納米波長光源，單次曝光最高線寬分辨力達到22納米，結合多重曝光技術後，可用於製造10納米級別的晶元。

光刻機是集成電路製造業的核心設備，也是中國晶元製造的主要短板之一。一般來說，光刻分辨力越高，加工的晶元集成度也就越高。但傳統光刻技術由於受到光學衍射效應的影響，分辨力進一步提高受到很大限制。

中國的光刻機研製水平一直比較落後。荷蘭阿斯麥公司是全球唯一的高端光刻機生產商，但該公司產品不僅價格昂貴，而且產量很低，加上中國受到「敏感技術」進口限制，中國公司很難買到高端光刻機，成為中國晶元製造水平提升的瓶頸之一。

今年以來，美國在晶元供應上先後制裁中興通訊、福建晉華等中國公司，讓中國輿論大呼「芯之痛」，中國高層也多次強調在晶元製造等高技術領域不能總是「受制於人」。

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