三星:3nm工藝最早2021年量產
科技
01-12
IT之家1月12日消息 在去年5月的Samsung Foundry Forum論壇上,三星宣布了5/4/3nm工藝技術。據今日Tom"s Hardware帶來的消息,三星計劃最早在2021年開始量產3nm工藝晶元。
除此之外,三星方面還表示,將在今年下半年開始生產7nm EUV晶元。在去年,三星還表示將在2020年用上4nm GAAFET(Gate-all-around FET,或稱「環繞式結構FET」)工藝。不過包括Garner副總裁Samuel Wang在內的一些業內人士,對GAAFET晶元是否能在2022年前投入生產表示了懷疑。
雖然台積電、格羅方德Global Foundries)在EUV晶元開發上方面並不落後,但三星也有自己的一個優勢。三星已經在內部開發了自家了EUV掩膜檢測工具,只是尚未開發出類似的商業工具。
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