繼台積電公布5＋nm之後 三星將公布3nm路線圖

前兩天，台積電對外公布了未來3年的製程計劃，其中除了5nm製程外，還提到了5nm之後的5nm 。作為台積電的重要競爭對手，三星也加快了步伐。消息稱，三星將會於下周公布3nm以下工藝路線圖，與台積電展開競爭。

相比台積電，三星的策略更為激進。三星同樣計划了5nm工藝，同時還有3nm工藝。據稱三星採用的3nm工藝與目前的技術並不相同，其採用了GAA晶體管技術，用於取代目前的FinFET晶體管技術。GAA晶體管技術可以增強晶體管性能，當然對於工藝也提出更高要求。

三星將公布3nm路線圖

目前台積電和三星還要面臨的問題是，3nm已經逼近物理極限了，也是公認摩爾定律失效的節點。如果下周三星能夠公布3nm以下工藝的技術，那麼這對於半導體行業而言將會具有顯著的推動作用。

編輯點評：從目前的節奏來看，三星可能想要做的事情就是彎道超車。目前FinFET晶體管技術，台積電明顯佔優勢，特別是在量產這件事上。三星想要實現超越，只能選擇新的技術。

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