再次突破技術壁壘！9納米光刻機彎道超車 助力中國產業升級

我國上世紀80年代開始對外開放，改革開放使中國的經濟不斷溶入全球經濟的發展行列，但隨著我國經濟活力的不斷釋放，再加上對國家經濟科技發展的長期適當的戰略，我國藉助經濟發展的助力，各行業的科技能力也不斷加速，這也引起了西方世界尤其是西方強國的注意。

為了阻止我國獲得技術，西方列強更是對中國採取了武器禁運，以防止獲得先進的武器技術，在民用科技行業，國外科技企業既想從中國獲得大量的利益，又對我國在技術上大增壁壘，但我國龐大的人力資源和科研隊伍卻起了巨大的作用，不僅在軍工行業，而且在民用技術上不斷獲得巨大突破，最近又傳來我國突破了9納米光刻機技術的消息，這也標誌著我國再一次打破了西方高科技壁壘。

光刻機，有網友可能聽到其名字時比較陌生，但其實我們在日常生活中經常會接觸到由其所鍛造的產品，比如我們所使用的手機和電腦以及其他電子產品的晶元都要經過其製造。主要是使用其在矽片板上刻制電路，隨著電子設備發展的小型化和智能化，晶元的電路板越來越小，電路更加密集，這也對光刻機提出了更高的要求。也使光刻機技術的地位作用更加重要。目前，普通光刻機的主要集中在14納米的水平上。更先進的還有7納米和9納米光刻機，光刻機技術主要掌握在日本、德國和荷蘭手中，尤其是荷蘭更是此行業的霸主，而非常不幸的是，荷蘭的光刻機公司由於出於種種原因，其光刻機對我國禁運，而對於我國電子產品產量及種類非常龐大的產業來說，其影響力是巨大的，它也間接制約著我國的產業轉型升級，因此在光刻機的研發上，我國也是投入了大量的資金和人員。

達成這一突破的是我國的武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊，他們採用二束激光在自研的光刻機上突破了光束衍射極限的限制，刻出了最小9納米線寬的線段，與西方的光刻技術有所區別，可以說擁有完全的自主產權。相信在不久的將來，這種9納米光刻機技術，很快會從實驗室走嚮應用，屆時，我國的晶元製造將大大減輕對國外的依賴，我們中國人也可以自主設計更先進的晶元，從而在日趨激烈的電子產品競爭中佔據主動地位。

光刻機是現代晶元製造的核心裝備之一，而日本，德國和荷蘭掌握了光刻機的製造技術，但這些製造出來的光刻機非常的昂貴，動輒上億美元，即便是如此昂貴的裝備，他們還是可以賣給其他國家的。

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