《科學》評論：美國排擠外國學者，會威脅科技繁榮

圖片來自sciencemag.org

編譯 | 何東明

責編 | 葉水送

美國在很多科技領域一直都處於全球領導地位，但很多美國科學家也一直有憂慮。5月17日，加州大學教授、Science 前主編 Albert Bruce 等人在 Science發文稱，美國對華裔等外國學者的排擠以及不再支持年輕學者對新想法的探索，對美國科技繼續繁榮發展會構成威脅。

他們指出，自20世紀中葉以來，美國能成功位於全球科技的領導地位，重要的是來自研究型大學的貢獻。這些高校創造出新的基礎科技知識，培養出許多優秀的年輕人才，吸引了世界各地的學者，很多人選擇留下來做貢獻（技術專家、學者與企業家等），這構成了美國保持科技繁榮發展的循環系統。

如今，這個循環體系的兩個關鍵要素正在受到威脅：

1. 年輕人才缺乏支持，也不再被鼓勵他們探索新的想法，開展新的獨立研究生涯越發的難。近30年來，美國NIH對36歲以下的科學家資助顯著下降。

2. 在政治領導人的鼓吹下，不公正地貶低國外學者的成就與貢獻。這並非是美國的精神，限制學術合作簽證嚴重影響了外國優秀人才進入美國，他們原本可成為美國的科技繁榮貢獻重要力量。

為此，他們提議領導者必須集中精力刺激創新，向那些有新研究想法的新研究者提供資助，並在其年輕時開始提供資金。同時重新考慮簽證和移民政策，使留學生更易獲得綠卡，讓他們更容易留下來並為美國的科技發展做出貢獻。近一半的科技領域（STEM）博士生來自國外，而文章作者之一Venkatesh Narayanamurti 就是印裔學者，他成為了哈佛大學工程與應用科學學院創始院長。

文章還指出，近來對華裔科學家採取的諸多排外行徑，已引發國際上眾多學者與公眾的關注，美國政府需謹慎考慮，不要過度地破壞科研合作的環境。

參考資料

Two threats to U.S. science. Bruce Alberts, Venkatesh Narayanamurti,https://science.sciencemag.org/content/364/6441/613

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