中國晶元邁出一大步，蝕刻機已達先進水平，光刻機迎頭快跑

國產晶元已經取得了非常大的成果，雖然離世界晶元巨頭還有距離，但是現在無疑已經來到了最佳時刻。我們知道在晶元製造領域，有兩個機器非常重要，那就是光刻機和蝕刻機。雖然我國在光刻機方面還在追跑，但是在蝕刻機方面絕對是躋身全球第一梯隊。

還記得在2004年當時已經60歲的尹志堯離開矽谷從事了二十多年的半導體行業，帶隊回國創業。於是乎中微很快開發出第一台國產的生產半導體晶元的設備，它便是等離子體刻蝕機。或許大家還不知道，其實在全球最先進的可量產的7納米晶元工藝上，中微半導體是全球五大刻蝕機供應商之一，並已進軍5nm領域。

按照當前晶元發展進度，台積電已經開始打造5nm生產線，而在這條生產線上台積電將搭載5nm等離子體蝕刻機便是來自於深圳中微半導體。目前該技術已經得到了台積電的驗證。

在晶元製造領域，光刻機和蝕刻機一直是晶元製造領域的關鍵。在業界有個形象的比喻，光刻機是晶元製造的魂，蝕刻機是晶元製造的魄，如果要想製造高端的晶元，這兩個東西都必須頂尖。

而在光刻機方面，與世界最先進的7nm製程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是台積電在晶元製程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背後最大霸主，最大贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產光刻機還在路上，目前我國已經能夠使用365納米波長的光生產22納米工藝的晶元，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產光刻機可以使用低成本光源，實現了更高分辨力的光刻。

從光刻機還是蝕刻機，至少可以看得出來國產晶元已經取得了非常大的成就。中微半導體7nm蝕刻機的量產，直接邁入世界一流行列，5nm蝕刻機也在實驗階段。而光刻機方面已邁入22納米。

我們也相信如果光刻機與蝕刻機紛紛取得進展，也將成為如果挑戰台積電、三星、英特爾背後大霸主的有力籌碼。至少「科技自立」下，實現晶元研發國產化、加工製造本土化。那個時候，將會造福諸如華為、小米、OV等國產手機。

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