中國光刻機距離頂尖水平還有較大差距，那麼蝕刻機處在什麼地位？

我國的光刻機和刻蝕機

我國光刻機的最高水平是上海微電子的90nm製程，世界頂尖的光刻機是ASML的7nm EUV光刻機，ASM已經開始研製5nm製程的光刻機。相對來說，我國在光刻機製造領域與國際先進水平有很大的差距，高端光刻機全部依賴進口，我國的中芯國際今年將會引進ASML最新的7nm製程的EUV光刻機，一定程度上減小了與台積電、三星的差距。

我國的刻蝕機技術領先，中微半導體的介質刻蝕機、硅通孔刻蝕機位於全球前三，中微半導體的介質刻蝕機贏進入台積電7nm、10nm的生產線，中微半導體的刻蝕機製造工藝達到了5nm，已經通過了台積電的驗證。，我國大陸晶圓代工廠中芯國際50%以上的刻蝕機採用了中微半導體。

提到中微半導體，不得不說尹志堯博士，尹志堯在美國矽谷從事半導體行業20多年，在世界最大的半導體企業擔任副總裁。2004年時，60歲的尹志堯放棄美國百萬年薪，帶領三十人的團隊，回國創辦了中微半導體，在晶元製造設備領域與巨頭直接競爭。

刻蝕機的重要性

刻蝕機是晶元製造設備中重要性僅次於光刻機的第二重要設備，光刻機相當於畫匠，刻蝕機相當於雕工。

光刻機，用比較形象的描述就是將電路圖印在晶圓上，刻蝕機把光刻機印好的圖案刻在晶圓上，主要利用化學途徑選擇性地一處沉澱層的特定部分。

刻蝕機主要分為介質、多晶、金屬等幾種，目前比較流行的是介質刻蝕，佔比超過了50%，我國中微電子的介質刻蝕可以實現5nm的製程。

在晶元製造領域，我國的短板在於光刻機，與國外先進技術有一定的差距。刻蝕機處於世界領先的水晶，特別是中微電子的5nm晶元刻蝕機，此外還有北方華創的刻蝕機、盛美的清洗設備，處於世界領先水平。

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