有了先進的光刻機，中國芯就無憂了？你想的太簡單了

眾所周知，一說起中國芯，大家就會提光刻機，然後就會說光刻機被卡著脖子。而只要網上傳出某廠商生產出了什麼光刻機，然後就會說中國芯再也不怕了，好像只要有最新的光刻機，我們就能夠生產出先進的晶元一樣。

那麼，真的有了光刻機，中國芯就無憂了？晶元的生產真的就只依賴光刻機么？只怕你想的太簡單了。

中芯國際從ASML採購了一台EUV極紫外線光刻機，目前已經進入了中芯南方的廠，這台光刻機可以支持9nm及以上晶元的生產，但中芯國際用這台光刻機只準備在今年量產14nm的晶元，再往下還沒計劃呢。

同時華虹半導體從ASML採購了一台193nm雙級沉浸式光刻機，可用於生產14-20nm的NAND快閃記憶體晶元，但實際上華為虹半導體目前還處於28nm工藝中，計劃用這台光刻機來生產20nm的晶元。

可見，有了好的光刻機，並不意味著著能生產高製程的晶元，這中間牽涉的東西太多了。比如高純度的硅、光刻膠、靶材什麼的，還有像刻蝕機這些必備的設備。

除此之外，最關鍵的是技術和人才，別以為晶元的生產一台光刻機就可以搞定，技術和人才才是最重要的，比光刻機更重要。

當年三星之所以短時間內追上了台積電的工藝，因為從台積電挖了梁孟松過去，而中芯國際為何從28nm就要跳到14nm了，因為梁孟松加盟了中芯國際。

所以說，晶元的發展，真的是一步一步走出來的，沒有捷徑，技術和人才是根本。想靠某企業研發出幾台全球最先進的光刻機，甚至說從ASML買到幾台先進的光刻機就無憂了，那就真的是大錯特錯了，要真這麼容易，估計國內的企業砸窩賣鐵，想方設法也會搞回來的，你覺得呢？

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