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有了先進的光刻機,中國芯就無憂了?你想的太簡單了

眾所周知,一說起中國芯,大家就會提光刻機,然後就會說光刻機被卡著脖子。而只要網上傳出某廠商生產出了什麼光刻機,然後就會說中國芯再也不怕了,好像只要有最新的光刻機,我們就能夠生產出先進的晶元一樣。

那麼,真的有了光刻機,中國芯就無憂了?晶元的生產真的就只依賴光刻機么?只怕你想的太簡單了。

中芯國際從ASML採購了一台EUV極紫外線光刻機,目前已經進入了中芯南方的廠,這台光刻機可以支持9nm及以上晶元的生產,但中芯國際用這台光刻機只準備在今年量產14nm的晶元,再往下還沒計劃呢。

同時華虹半導體從ASML採購了一台193nm雙級沉浸式光刻機,可用於生產14-20nm的NAND快閃記憶體晶元,但實際上華為虹半導體目前還處於28nm工藝中,計劃用這台光刻機來生產20nm的晶元。

可見,有了好的光刻機,並不意味著著能生產高製程的晶元,這中間牽涉的東西太多了。比如高純度的硅、光刻膠、靶材什麼的,還有像刻蝕機這些必備的設備。

除此之外,最關鍵的是技術和人才,別以為晶元的生產一台光刻機就可以搞定,技術和人才才是最重要的,比光刻機更重要。

當年三星之所以短時間內追上了台積電的工藝,因為從台積電挖了梁孟松過去,而中芯國際為何從28nm就要跳到14nm了,因為梁孟松加盟了中芯國際。

所以說,晶元的發展,真的是一步一步走出來的,沒有捷徑,技術和人才是根本。想靠某企業研發出幾台全球最先進的光刻機,甚至說從ASML買到幾台先進的光刻機就無憂了,那就真的是大錯特錯了,要真這麼容易,估計國內的企業砸窩賣鐵,想方設法也會搞回來的,你覺得呢?

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