光刻機領域王者ASML研發新代機型，2025年1納米工藝可期

集微網消息（文/kittykwoon），在2019年，台積電和三星都準備量產7納米的EUV工藝了，並且明年也會是5納米工藝的一個重要節點。要知道，在半導體製造的工藝中，最重要而且最複雜的就是光刻步驟，往往光這部分的成本就能佔到33%左右，所以半導體想要有突破性的發展，和光刻機的提升密不可分。

在光刻機這個領域，荷蘭的ASML公司是毫無疑問的王者。目前最先進的光刻機就是來自這家ASML公司生產的EUV光刻機，每台售價超過1億美元，而且供不應求。

ASML主要業務是光刻機，在光刻機領域處於絕對領先的地位。在45納米以下製程的高端光刻機市場中，佔據80%以上的市場份額，而在EUV光刻機領域，目前處於絕對壟斷地位，市佔率為100%，處於獨家供貨的狀態。阿斯麥的主要客戶為全球一線的晶圓廠，除了英特爾、三星和台積電這三大巨頭之外，國內的中芯國際也是阿斯麥的客戶。

有外媒報道稱，ASML公司目前正積極投資研發新一代EUV光刻機，和往代的相比，新款EUV光刻機最大的變化就是高數值孔徑透鏡，通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮解析度、套准精度兩大光刻機核心指標提升70%，達到業界對幾何式晶元微縮的要求。之前ASML公布的新一代EUV光刻機的量產時間是2024年，不過最新報道稱下一代EUV光刻機是2025年量產，這個時間上台積電、三星都已經量產3nm工藝了。

最後科普一下，阿斯麥的光刻機按照使用的光源不同，可以分為DUV光刻機和EUV光刻機。DUV是Deep Ultra Violet，即深紫外光；EUV是Extreme Ultra Violet，即極紫外光。DUV光刻機的極限工藝節點是28nm，要想開發更先進的製程，就只能使用EUV光刻機了。（校對/Kelven）

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