美系光刻膠能否解決韓系半導體廠商的燃眉之急？

投入研發短期內難以出成果

而韓媒3日報道，韓國政府就日本限制對韓出口的應對方案作出回應稱，計劃每年投入1萬億韓元(約合人民幣58.8億元)，推進對半導體材料、零部件和設備的研發，正在對此進行可行性調查。

不過，光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一。其行業集中度高，龍頭企業市場份額高，行業利潤水平高，且暫無潛在替代產品。又因為，作為半導體晶元產業的上游產品部分，光刻膠產品的質量直接影響下游晶元產品的質量，因此下遊行業企業對光刻膠產品的質量和供貨能力十分重視，上下游的合作模式比較穩固，新的供應商難以加入供應鏈。

另外，隨著半導體IC的集成度日漸提升，對光刻技術的精密性要求也不斷嚴格，半導體光刻膠也通過不斷縮短曝光波長的方式來提高極限解析度，同時更高極限解析度的光刻膠的價格也更高。據了解，光刻膠的曝光波長由寬譜紫外向g線-i線-KrF-ArF-EUV(13.5nm)的方向移動。當前，半導體晶元市場對於g線和i線光刻膠使用量最大，KrF和ArF光刻膠技術被日本和美國企業壟斷，韓國和中國作為追趕者也在積極研發ArF193nm光刻膠技術。

在全球光刻膠領域中，日本佔有非常重要的位置。據了解，全球專利分布前十的公司，有7成是日本企業。其中，合成橡膠和東京日化可量產市面上幾乎所有的光刻膠產品（EUV光源用光刻膠正在研發中），信越化工、富士電子、住友化工在當下主流的半導體光刻膠領域也有較突出的表現。

除了東進之外，韓國還有LG化學、錦湖化學、COTEM等也生產光刻膠材料，但是對使用在ArF193nm 和EUV光源下的光刻膠產品方面，韓國目前尚未具備量產能力。而韓國的半導體製造工廠的技術最高已經達到7nm，三星電子和SK海力士均有ArF和EUV光刻機設備。目前，在全球範圍內能生產ArF光刻膠的企業主要以日美兩國企業為主，Euv光刻膠還在研發階段。如果日韓兩國的關係沒有及時得到修復，庫存的材料用盡，新的材料又尚未走完審核流程的這段時間裡，三星電子和SK海力士的一些產線將面臨停擺的風險。

日前，SK海力士發言人對媒體表示，如果兩國之間的問題得不到妥善的解決，且不能追加半導體材料採購，未來或將出現停產的情況。而在這個空缺期，美系光刻膠企業是否能成為韓系半導體廠商的「續命丹」？

值得注意的是，韓國在日本宣布對其限制進口之後才明確表示加大對半導體材料的研發力度，相信在韓方有所成績之前，該國的半導體廠商依舊需要購買日方的材料。此前三星電子和SK海力士的光刻膠材料主要有日本企業供應，如果在這個節點轉而向美系企業是否會順利？國際電子商情將持續關注。

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