三星5nm工藝有望2020年量產：邏輯效率比7nm提高25％

IT之家7月9日消息 根據AnandTech的報道，三星晶圓廠已經認證了Cadence和Synopsys的全流程工具，該工具採用了極紫外光刻（EUV）的5LPE工藝技術。

三星晶圓廠使用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57內核認證了用於5LPE技術的Synopsys融合設計平台以及Cadence全流程數字工具。該認證意味著這些工具滿足三星晶圓廠要求。

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三星的5LPE技術依賴於具有新標準單元架構的FinFET晶體管，並使用DUV和EUV步進掃描系統。與7LPP相比，新技術的「邏輯效率」提高了25％，晶元開發人員可將晶元設計的功耗降低20％或將性能提高10％。

由三星認證的Candence和Synopsys的工具集包括編譯器、驗證器、電源電路優化器以及EUV專用工具。

由於三星的5LPE比其7LPP工藝使用更多的EUV層，因此預計它將用於三星華城的EUV工廠。該生產線將耗資6萬億韓元（46.15億美元），預計將於2019年完工，並於2020年開始大批量生產。

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