國產微型化晶振獲巨大進展，六面光刻工藝獲得突破

在電子元件上，估計很多人都會想到晶元，而現在對於我們國家的晶元產業來說，正處於高速發展的大號時機，無論是在自主創新上，還是在市場拓展上，都將讓我們的半導體產業帶來巨大變革。

相對於晶元產業的發展，我們在晶振產業上同樣需要非常多的關注，畢竟，除了晶元之外，晶振產品在現代設備中，也有著非常多的應用。尤其是對於已經到來的5G時代，國產晶振產品對於保障光電等國產電子產品的領先有著重要作用。

對於晶振行業來說，微型化、片式化是一大發展趨勢，小型號、高精度、高穩定性的晶振產品，也是未來5G時代的高科技產品的重要配件。而要想實現晶振產品的微型化，MEMS光刻技術是至關重要工藝。

現在，作為國內晶振行業的專精特新「小巨人」企業，泰晶科技已經成功做到了使用六面光刻工藝，將超過2000顆的「2012」型號晶體諧振器，集成到了80×80mm的晶元上。

這裡需要給大家說清楚的是，MEMS光刻技術並不是大家所常說的EUV光刻機技術，MEMS是指微機電系統！而MEMS光刻技術其實是對於微納米晶體的加工技術，也是晶振技術產業發展的關鍵技術，而現在我們已經有了屬於自己的MEMS光刻技術領先企業，有了相關的核心技術知識產權，而我們的晶振產業也必將迎來更大的發展。

科技創新不僅僅是體現在一兩個領域，尤其是對於我們這樣的一個大國，我們需要在更多的領域和行業有著我們自己在世界上的領先企業，這樣我們才是一個名副其實的大國，切記不要想韓國那樣，看似自己的半導體產業發達、領先世界，但是在特殊材料的上的落後，直接導致半導體產業被卡了脖子。

一句話，無論世界如何變化，只要我們在科技技術的制高點上有了立足之地，每一個企業都進行創新，每一個人都進行創新，科技風景線小編相信，一個創新的大國必將成為世界科技強國，而這一天終究會到來的！

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