悶聲做大事！台積電悄悄改善其7nm和5nm工藝

8月1日消息，根據外媒anandtech的報道，台積電已經於近日悄悄推出了兩項新工藝，分別是N7P和N5P，這兩項技術適用於需要藉助7nm設計實現更快運行和更低功耗的客戶。N7P是7nm 深紫外（下稱「N7」）的性能增強版本，而N5P是5nm 極紫外（下稱「N5」）製造工藝的性能增強版本。

台積電的新N7P工藝使用與N7相同的設計規則對前端和中端進行優化。在相同功率下，可以將性能提高7％，在相同頻率下，則能提高10％。與N7相比，N7P採用經過驗證的深紫外光刻技術來降低晶體管密度。所以對於晶體管密度高於約18％至20％的台積電客戶來說，應該會使用將N7和N6兩種工藝結合起來的技術。

而N5，其實是台積電的下一個項目，在它本身就具有更低的密度和功耗以及更高的性能這一優點下，台積電依舊通過對前端和中端的優化達到性能的增強。在相同功率下將晶元的運行速度提高7％，在相同頻率下則提高15％。

此前台積電錶示，在2019年的剩餘時間裡，各大設備供應商對其晶元的需求會非常強勁。而此次台積電在技術上的升級，應該也有助於需求的不斷增長，讓公司的財務狀保持良好態勢。

本文編輯：李欣悅

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