中國光刻機有望解決卡脖子問題 三強聯手研發高端光刻機

在半導體製造中，光刻是最重要的一個環節，同時也是決定半導體工藝水平的關鍵，高端晶元要光刻多次，佔到了製造成本的三分之一，目前全球的光刻機主要壟斷在荷蘭ASML、日本佳能、尼康手裡。

國內也是有光刻機研發生產能力的，不過技術水平比較低，國內公司的光刻機主要用於90nm及以上的工藝，先進工藝上依然要依賴進口光刻機，但是這個局面有可能加速改變。

日前北京國望光學科技宣布，該公司價值10億元的增資方案已經在北京產權交易所完成，該公司引入了中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中國科學院上海光學精密機械研究所作為戰略投資者，兩家機構以無形資產作價10億元入股，對應持股比例為33.33%。

中科院下屬的長春、北京研究所本身也是國內光刻機研發領域的重要力量，現在三家公司進行了緊密合作，意味著北京在推動國產光刻機核心部件生產方面邁出實質性步伐，將加快突破國產中高端光刻機製造「卡脖子」技術難題。

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