光刻機開始調試，國產半導體關鍵材料研製再獲進展
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12-04
國產晶元發展進步緩慢，讓不少人意識到了在半導體產業鏈上，我們還存在諸多的落後短板，尤其是在光刻機方面，已經成為了「卡脖子」的關鍵難題。這就讓人感覺到，只要我們在光刻機上獲得成功，國產晶元就算是成功了。
其實不然，有了高端光刻機只是完成晶元國產製造的關鍵一步，除此之外，我們還有很多關鍵的環節需要突破，這裡面半導體製造材料極為重要。
就像這一段時間，日本對韓國賴以生存的半導體產業下狠手一樣，就是在半導體關鍵材料上出手的：光刻膠、氫氟酸以及氟化聚醯亞胺。後面這兩個，韓國總算有了眉目，但是在光刻膠方面，韓國依舊拿日本沒辦法！
而對於我們來說，在光刻膠方面，長時間以來，同樣也是面臨著外國廠商的技術封鎖，存在著巨大的攻關難題，而多虧了我們的科研人員堅持不懈的付出，現在終於獲得了突破。
近日，上海新陽發布消息稱，用於測試存儲器晶元的半導體厚膜光刻膠（KRF）的相配套的光刻機已經安裝完畢，並進入相關調試階段，而邏輯與模擬晶元薄膜光刻膠（ARF）的研製工作已經獲得重大進展，另外，KRF光刻膠的研製也已經順利展開。這對於我國國產高端光刻膠的市場需求與供應來說，絕對是很不錯的消息。
半導體產業發展壯大，絕不是一兩天就可以搞定的事情，也不是大家嘴炮一響就可以完成的，需要我們堅持不懈的投入，需要我們堅持不懈的支持，科技風景線小編相信，只要我們堅持不懈地做下去了，國產半導體產業一定會成功的！
