國產半導體關鍵材料獲得突破，而光刻機也安裝完畢
國產半導體產業發展落後，尤其是在國產高端晶元製造方面，存在著很大的差距，而這裡面的落後，並不是單單因為我們在光刻機的研製製造方面存在短板，而在整個半導體產業鏈中，存在多個短板。
這裡，科技風景線小編要給大家說的這個短板則是光刻膠，或許我們已經有了相關的突破，但是，我們必須正視現在的差距，尤其是在量產方面，差距需要彌補。當然了，前提還是需要在研發上獲得突破，而就在近日，我們的一家企業在光刻膠方面，有了很不錯的進展。
本周一，上海新陽宣布消息稱，訂購的與ARF193nm光刻膠相配套的光刻機將在本月底實現交貨，而與KRF248nm光刻膠相配套的光刻機則已經安裝完畢，目前已經開始調試工作。
據悉，現在上海新陽的ARF193nm光刻膠的關鍵技術已經獲得了重大突破，已經從研發階段，開始向量產階段轉移，而ARF193nm光刻膠的突破，意味著國內晶元製造方面，在90nm銅互聯製程後的關鍵光刻膠產品將填補市場空白，也意味著我們距離掌握自主可控的晶元製造關鍵材料更近了一步。
不過，這裡面需要給大家說清楚的是，也是讓不少網友誤解的地方，上海新陽這次已經安裝完畢的光刻機並不是我們國產的，這台光刻機的供應商還是大家所熟知的荷蘭光刻巨頭ASML，而上海新陽所採購的這台設備還是二手光刻機，為ASML1400 型！
其實大家也沒有必要在這方面有所計較，畢竟，上海新陽並不是晶元製造廠商，而是半導體產業材料的供應方，為了在光刻膠方面獲得突破，自然需要光刻機的相關配套設備，用來進行相關產品的測試工作。
實際上，這也可以從側面反映出來，我們在晶元製造環節的隱患，不但晶元製造需要光刻機，即使是晶元製造相關材料上也是需要光刻機的，這就需要我們在國產光刻機上繼續努力了，我們落後很多，差距也非常大，而作為必須突破的短板，國產光刻機研製還需要更多投入，而科技風景線小編也堅信我們一定會獲得突破的，為我們的科研人員加油！
