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告別XRF小白——XRF儀器選型及制樣「殺手鐧」

主講人:yue_qiu(仗劍少年游)


XRF版面


內容梗概

XRF,X射線熒光光譜分析法(X Ray Fluorescence),利用初級X射線光子或其他微觀離子激發待測物質中的原子,使之產生熒光(次級X射線)而進行物質成分分析和化學態研究的方法。按激發、色散和探測方法的不同,分為X射線光譜法(波長色散)和X射線能譜法(能量色散)。


今天為大家分享一些XRF分析檢測儀器的選型及制樣方式的幾點經驗之談。


如果沒有記錯,XRF(包括波長色散WDXRF和能量色散EDXRF)的興起是近十幾年的事情,至少我在大學期間的儀器分析課程中沒有相關的授課內容(教材中有簡略介紹),無機物的定性、定量分析更多的還是依賴於ICP-OES(電感耦合等離子發射光譜)和AAS(原子吸收光譜),授課內容及上機操作都是這兩種儀器。


我不是很清楚當前高校內XRF類分析檢測儀器的裝備水平和相關課程設置是否有所變化,但是從論壇中的求助帖子來看,很多人也是剛剛接觸XRF分析檢測原理及XRF分析檢測儀器。

我不是分析專業出身,XRF也是在工作之後接觸的,因此理論方面是弱項。由於工作要求相對特殊,需要我們儘可能快、儘可能多的獲取樣品的成分、含量信息,所以側重於樣品的定性、半定量分析,XRF能很好的滿足我這方面的需要。四台套XRF分析檢測儀器(兩台波譜,兩台能譜)的採購、維護和使用,過萬各種類型的樣品檢測使得我自認為在儀器選型、維護、樣品製備方面有些心得。


這次應邀開設線上講座,也是硬著頭皮上,希望能給大家提供一些實質性的幫助,對於說的不對的地方,還望大家指出,共同探討,共同進步。


XRF分析原理


其實就是三句話,XRF射線能激發XRF熒光,每個元素都有特定的譜線(定性),譜線強度可以用於定量分析。


我之前搜集過不少關於XRF原理及分析檢測儀器的介紹資料,雖然很多標題都冠以淺談、簡介的字眼,在我看來還是顯得複雜(誰叫我水平低呢)。我認為分析原理及分析檢測儀器的構造應該整體作為一個黑箱處理,使用者只要知道這個黑箱能解決什麼問題,如何操作黑箱即可。

波長色散XRF和能量色散XRF及其區別


WDXRF:


波長色散使用較為複雜的光路系統(分光晶體、狹縫、測角儀、準直器等等)來區分不同的譜線,並測試強度。

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(從右往左分別是:X光管高壓發生器 X光管 樣品 初級準直器 分析晶體 次級準直器 正比流量計數器 輔助準直器 閃爍計數器)

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這個是接近實物狀態構造示意圖

EDXRF:


基本上,大家可以將EDXRF理解成為一台特殊的數碼相機(拍攝不可見光的照片,不同的顏色表徵不同的元素,面積表徵含量)


光源:X射線 ;


拍攝對象:樣品;


濾鏡:濾光片;


成像元件:探測器

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能量色散XRF的構造示意圖(是否和數碼相機的構造很相似?)


如果大家對傳統膠片相機還有些許印象的話,WDXRF和EDXRF的區別與膠片相機和數碼相機的區別有些相似,由於光路系統大幅度簡化,EDXRF的效率比WDXRF要高,因此能耗、體積方面比WDXRF佔有明顯優勢。


從檢測元素範圍而言,WDXRF通常是F-U(理論上Be以上都可以);EDXRF通常是Na-U;EDXRF輕元素表現較差(因為能量不足),WDXRF重元素較差(因為譜線複雜)。


XRF的殺手鐧


無標半定量分析


這個特點非常實用,實際應用中也非常有效,能做到這一點是由於XRF原理所致,這裡不解釋了,只希望大家明白無標半定量分析歸根結底是數學的貢獻,如果沒有當今計算機強悍的運算能力,XRF也沒有那麼快的發展。


這個無標半定量分析到底有多靠譜呢?


實際上還是要依據樣品而定,一般來說同性混合物的無標半定量結果在常量分析範疇5%~95%參考價值很大。


我這裡提到了自己杜撰的一個概念——同性混合物,舉例說明:如各種非金屬元素都以氧化物存在,或都以碳酸鹽存在,或都以硫化物存在,或者是金屬氧化物的混合物,金屬粉末、合金,這些樣品的無標半定量分析結果都很不錯。因此XRF在探礦,金屬分類方面有著廣闊的應用前景。


無損檢測


無損檢測也是XRF的一大特色,不過嚴格來說WDXRF進行的是只能是半無損檢測,因為畢竟還需要制樣處理,而EDXRF能實現真正意義上的無損檢測,制樣方面更為簡單、隨意。


XRF的定量分析


如果只有無標半定量那麼讓定量分析和標準品情何以堪?通過工作曲線,XRF自然也能承擔定量分析的重任,但是此時情況就變得有些複雜了。


基體效應、顆粒效應、礦物效應……看著很頭疼吧?


我把問題簡化一下,無論是WDXRF還是EDXRF,都是X射線以一個角度照射樣品,從另一側收集信號。大家就假設是一束光線照射到一塊雜色且不均勻的玻璃上,從另外一個角度收集反射光(回想一下初中學的光學知識部分)。


那麼玻璃表面是否平整(漫反射)、同層各種顏色之間的干擾情況,不同層之間(光線有入射深度,也有出射深度)的相互干擾情況等等都會影響反射光的顏色和亮度(能想像出我的意思么?),這就是我所理解的各類效應的總和,於是,為了減少這些因素的影響,最好的方法是什麼?——對,混勻!把這塊雜色玻璃變成一塊通透、均勻的玻璃(將原本是藍黃兩色的玻璃融成一塊綠色玻璃)。


由此衍生出兩種最常見的制樣方法:粉末壓片、熔融製片。


好吧,我能說的就是這些了,定量分析不是我的菜。


XRF的維護


總體而言,XRF的機器還是很皮實的,由於光路系統基本上做成一個黑箱了,電路部分相信沒有幾個人擅長,所以主要的維護工作是在樣品室。


使用XRF分析檢測技術測試的樣品多數是因為不便製成溶液上ICP和AAS檢測,雖然XRF能做液體樣品(如油品),但是絕大多數時候樣品都是固體,不少時候是粉末,因此儀器的主要病因是粉塵引起。EDXRF的進樣超簡單(把樣品杯放在檢測位置上即可),不用介紹了。


WDXRF稍微複雜一些,上幾個示意圖作為演示。


樣品從樣品腔下到光譜室,然後馬達會驅動下圖的艙蓋封閉整個光譜室,或者抽真空,或者通氦氣。

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每次打開光譜室(要先設置環境為大氣)我都會用脫脂棉蘸無水乙醇擦拭O型圈,很小心的擦拭鈹窗(主要是有些灰塵,但是要非常小心,因為鈹窗很薄,而且是核心配件),清理完畢後在O型圈上擦拭很少的真空脂,實踐證明真空保持的一向不錯。

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這個是伸出的濾光片,下面就是鈹窗,粉末壓片的壞處就是各個環節都有可能產生粉塵污染,因此通過終端指令將濾光片逐一伸出,逐一擦拭,濾光片很結實,不用擔心損壞。

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這個應該是銅濾光片

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光管、測角儀、晶體等等整個光路系統都在光譜室中


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