在幾個月前，上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）宣布與之簽署戰略合作備忘錄。

高端光刻機基本依賴進口

目前全球高端光刻機市場基本被荷蘭ASML壟斷，最先進的EUV光刻機全球僅僅ASML能夠生產——Intel、三星、台積電用來加工10nm晶元的光刻機都是購買自ASML。

ASML EVU光刻機

相比之下，國內光刻機廠商則顯得非常寒酸，中國在該項技術上，並非落後於某一個國家，而是在與整個西方的高端精密製造實力相較量。

國內單位在光刻機領域取得突破

成都光機所找到了一條能夠繞開傳統的193nm曝光的技術路線，這種光刻機可以實現單次成像達到22納米水平，如果結合多重曝光技術，就可以用於製備10納米以下的信息器件。

去年5月，清華大學召開了「光刻機雙工件台系統樣機研發」項目驗收會，該雙工件台系統的關鍵技術指標已達到國際同類光刻機雙工件台水平。

由長春光機所牽頭承擔的國家科技重大專項02專項——「極紫外光刻關鍵技術研究」項目順利完成驗收前現場測試。根據官方披露的消息，計劃在2030年實現EUV光刻機的國產化。

多項舉措有利於提升本土技術實力

在今年3月，上海微電子裝備（集團）股份有限公司與ASML簽署戰略合作備忘錄。

未來，這個培訓中心將擁有多款ASML的光刻設備和檢測設備，也將逐步對國內半導體行業企業內的光刻工程師開放。這將大幅提高中國集成電路產業在高端和專業技術人才方面的培養力度。這對國內工程師熟悉設備工藝，提升光刻技能與專業知識具有積極的促進作用。

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