荷蘭ASML一年就賣幾十台機器:Intel的7nm卻全指望它
10nm工藝節點即將大規模普及,同時這也意味著我們很快進入7nm階段,不過,7nm的技術挑戰已不可同日而語,其中的關鍵就是EUV(極紫外)光刻機。
其中,荷蘭ASML(阿斯麥)在當今高端沉浸式光刻機中佔據80%的份額,是絕對的龍頭。
昨天晚些時候,阿斯麥也公布了財報數據,Q1凈營收為19.4億歐元,毛利率47.6%,而它們所做的一切,不過是賣出數十台光刻機而已。
其中主要包含三部分,分別是深紫外光(DUV)微影、全方位微影(Holistic Lithography)和極紫外光(EUV)微影,前者用於10nm量產和7nm的研發,迄今累計裝機60多台。
而最高端的EUV光刻機,僅僅在Q1晚些時候出貨了第一台NXE:3400B,而收到的訂單已經累計21台,總價值23億歐元,單價超1億歐,媲美一架F35戰鬥機。
這第一台的客戶如無意外應該就是Intel,而後者目前用的最多的還是前一代EUV系統NXE 3350B,即使這樣,全球也才部署了6套而已,供不應求。
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