三星公布最新半導體工藝路線圖：2020年推進4nm
三星在今天凌晨舉辦了新聞發布會，公布了旗下最新的工藝製程路線圖，在新的路線圖中，三星希望能夠在2020年推進4nm工藝製程，顯得野心勃勃。
「我們的路線圖充滿希望和野心，因為三星不單單只是計劃這些新的工藝製程，而是在這些時間點上真的能夠實現預定的計劃」三星市場高級總監Kelvin Low如此說道。
根據三星的計劃，在未來三年內也就是2017年至2020年，三星半導體的工藝製程將一步一個腳步的前進。比如今年試產8nm工藝，2018年量產7nm工藝，2019年則成功研發6nm以及5nm工藝，至於2020年，三星希望直接將工藝製程推進至4nm。
目前三星還稱自己的晶圓廠所使用的光刻機已經可以達到每天1000片晶圓的產量，而未來三星希望將產量提升50%至1500片。同時三星還宣布將會在2018年引進最先進的EUV光刻機加入到晶圓的製造中來。
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