「中國芯」幕後重量級推手（二）：國產裝備如星火燎原 取得先進工藝突破口
國產半導體設備與材料正積極打破國外壟斷局面，邁入先進工藝製程領域。其中北方華創、中微則是國產裝備的領軍「旗手」。北方華創目前14nm等離子硅刻蝕機台已正式交付客戶；同時中微傳出年底將正式敲定5nm刻蝕機台。這是國產半導體裝備在先進工藝製程相繼取得的重大突破。
文章來源： DIGITIMES
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※中微半導體設備公司將在今年年底正式敲定5nm刻蝕機
※Synopsys的IC Compiler II通過了TSMC 7nm製程工藝認證
※Systech防偽技術解決方案為品牌誠信度和消費者保駕護航
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